財(cái)聯(lián)社2月27日電，據(jù)報(bào)道，荷蘭光刻設(shè)備制造商阿斯麥高管表示，公司新一代極紫外光刻機(jī)已準(zhǔn)備就緒，芯片制造商可開始將其用于大規(guī)模生產(chǎn)。該設(shè)備單價(jià)約4億美元，為初代EUV機(jī)型的兩倍。阿斯麥?zhǔn)紫夹g(shù)官馬爾科·皮特斯稱，該設(shè)備已累計(jì)加工約50萬片硅晶圓，停機(jī)時(shí)間極低，圖案精度達(dá)到量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)。