《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》15日訊，阿斯麥（ASML）首席執(zhí)行官克里斯托夫·富凱表示，公司為High-NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)）所設(shè)計(jì)的光刻改進(jìn)方案已得到驗(yàn)證，成像效果極佳，分辨率非常出色。目前公司正與客戶合作，以全面完善該光刻系統(tǒng)的成熟度。報(bào)道稱，阿斯麥將與客戶密切配合，確保High-NA EUV在明年內(nèi)實(shí)現(xiàn)停機(jī)時(shí)間降至最低的穩(wěn)定運(yùn)行。富凱預(yù)計(jì)，High-NA EUV將在2027至2028年間實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。