《科創(chuàng)板日報》10月14日訊（編輯 宋子喬） 今日，富士康在官網(wǎng)上宣布，公司正在與英偉達合作，推動800伏直流（800V DC）架構落地AI數(shù)據(jù)中心。這一新架構將首先在高雄K-1人工智能數(shù)據(jù)中心項目中實施，該項目作為展示平臺，展現(xiàn)公司在AI服務器、數(shù)據(jù)中心及可再生能源整合方面的能力。

800V直流架構是一種應用于數(shù)據(jù)中心電源系統(tǒng)的高壓直流架構。據(jù)富士康介紹，此架構專為高密度AI工作負載打造，具備模塊化與可擴展特性，能顯著降低電流與電阻損耗，減少銅導體用量并簡化電力分配與使用空間，同時提升能源轉換效率與降低總體用電費用。該架構亦支持英偉達未來多代GPU平臺，為AI服務器與數(shù)據(jù)中心提供高效、可靠且可持續(xù)的電力基礎，滿足下一階段AI運算需求。

為了智算性能，AI工作負載需將GPU盡可能密集部署，形成超萬顆及以上的超大智算集群，使得在較小空間內功率高達10-100+MW。而當前數(shù)據(jù)中心供配電體系難以應對未來超高密機柜部署，需要重構。智算中心超高密機柜供配電系統(tǒng)與通算數(shù)據(jù)中心的關鍵區(qū)別是超大功率傳輸、動態(tài)沖擊，產(chǎn)生對更高電壓制式、更高效率、更高功率密度、抑制動態(tài)沖擊保護等方面的關鍵需求。

英偉達正加快營造高壓直流電源生態(tài)，聯(lián)合電源解決方案公司、上游零部件供應商推動800V HVDC架構落地。今年5月，英偉達宣布將從2027年起推動數(shù)據(jù)中心電力基礎設施向800V高壓直流（HVDC）過渡，目標是支持1MW及以上功率密度的IT機架。

技術合作方面，英偉達與納微半導體聯(lián)合開發(fā)基于GaN及SiC的800V HVDC電源架構，率先應用于下一代AI數(shù)據(jù)中心與Rubin Ultra計算平臺；供應鏈協(xié)同方面，英偉達與英飛凌（SiC器件）、臺達（電源系統(tǒng)）、維諦技術（直流母線槽）等廠商合作，確保核心組件的供應與技術兼容。

據(jù)《科創(chuàng)板日報》不完全統(tǒng)計，英偉達數(shù)據(jù)中心電氣生態(tài)系統(tǒng)中的主要伙伴合作包括：

芯片提供商：Infineon（英飛凌）、MPS（芯源）、TI（德儀）、ST（意法）、ROHM（羅姆）、Navitas（納微）；

電源系統(tǒng)組件：Delta（臺達）、Flex Power（偉創(chuàng)力）、Lead Wealth（領裕/比亞迪）、LiteOn（光寶）、Megmeet（麥格米特）；

數(shù)據(jù)中心電力系統(tǒng)：伊頓（Eaton）、施耐德電氣（Schneider Electric）、維諦技術（Vertiv）。

國內公司同樣有望受益此架構落地，此前8月1號，英偉達官網(wǎng)更新800V直流電源架構（800V DC）合作商名錄，國內GaN芯片龍頭英諾賽科成唯一入選中國廠商。

目前，國內主流為240V/336V HVDC方案，海外800V升級方案尚處于驗證中。據(jù)民生證券不完全統(tǒng)計，A股公司中，中恒電氣在互動易中表示，公司積極推動在800V領域的試點應用；科華數(shù)據(jù)在投關平臺上答復形成面向高功率，高密機柜的800VDC產(chǎn)品解決方案，同時在科華數(shù)據(jù)官方公眾號中公布了其已經(jīng)交付了1000臺和騰訊聯(lián)合開發(fā)的彈性直流一體柜；麥格米特在最新一期半年報中提出在服務器電源領域已推出PowerShelf、BBUShelf、Power Capacitor Shelf、800V/570kW Side Rack等產(chǎn)品。

招商證券在研報中表示，中國企業(yè)在供電變革中可能有不錯的機會。隨著HVDC的大規(guī)模應用，海外傳統(tǒng)柜外供電廠商（如伊頓、維諦、施耐德）面臨格局重塑風險，較多的研發(fā)周期促使它們尋求中國企業(yè)代工或合作開發(fā)產(chǎn)品，中國公司過去積累的電力電子技術、快速響應能力和優(yōu)質工程師團隊將成為關鍵優(yōu)勢，有望通過代工OEM等方式進入海外體系，并獲得優(yōu)異回報。

該機構建議關注：1）HVDC：科華數(shù)據(jù)、麥格米特、科士達、陽光電源、中恒電氣、盛弘股份、禾望電氣；2）配套：蔚藍鋰芯、思源電氣、江海股份、金盤科技、伊戈爾、四方股份。

興業(yè)證券表示，數(shù)據(jù)中心建設需求快速增長背景下，海外電網(wǎng)保供能力捉襟見肘，現(xiàn)場電源的應用必要性顯著提升。新能源在數(shù)據(jù)中心中的應用，有望推動HVDC滲透率提升和電能質量設備應用的增加。